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2026-06
星期 一
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广州磁控溅射实验室 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射工艺的智能化升级方面，研究所构建了基于大数据的参数优化平台。通过采集数千组磁控溅射实验数据，建立了涵盖功率、气压、温度等参数与薄膜性能的关联模型，利用机器学习算法实现工艺参数的自动匹配。当输入目标薄膜的厚度、电阻率、硬度
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2026-06
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广州单靶磁控溅射流程 广东省科学院半导体研究所供应
磁控溅射加工是一种用于制备功能性薄膜的加工方式，应用于微纳米器件和集成电路领域。该加工过程基于入射粒子与靶材碰撞产生溅射粒子的原理，通过精确控制溅射参数，实现对薄膜厚度、成分及结构的准确调控。磁控溅射加工设备结构相对简洁，能够在较
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广州高温磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
半导体基片磁控溅射工艺涉及将高能粒子撞击固定的高纯度靶材，通过物理过程使靶材原子从靶表面释放出来，沉积于半导体基片表面形成薄膜。这一过程的关键在于入射粒子与靶原子之间的复杂碰撞和动量传递，形成级联效应，使得部分靶原子获得足够能量离
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2026-06
星期 一
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广州反应磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应
在交通领域的节能应用中，该研究所的磁控溅射技术实现了突破性进展。其开发的耐磨减摩涂层通过磁控溅射工艺沉积于汽车发动机三部件表面，利用高致密性薄膜的润滑特性，使部件摩擦系数降低25%，进而实现整车油耗减少3%的效益。该涂层采用Cr-
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星期 一
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广州智能磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
在第三代半导体材料制备中，该研究所通过单步磁控溅射工艺实现了关键技术突破。针对蓝宝石衬底上GaN材料生长时氧元素扩散导致的n型导电特性问题，研究团队创新性地采用磁控溅射技术引入10nm超薄AlN缓冲层，构建高效界面调控机制。终制备
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